Litografía contemporánea en EE.UU.desarrollo técnico y expresivo

  1. SANCHEZ LUNA, ALFONSO JULIAN
Dirigida por:
  1. José Manuel Guillén Ramón Director/a

Universidad de defensa: Universitat Politècnica de València

Fecha de defensa: 18 de diciembre de 2000

Tribunal:
  1. Antonio Tomás Sanmartín Presidente/a
  2. Antonio Alcaraz Mira Secretario/a
  3. José María Herrero Gómez Vocal
  4. Juan Carlos Ramos Guadix Vocal
  5. José Ramón Alcalá Mellado Vocal

Tipo: Tesis

Teseo: 85184 DIALNET

Resumen

Se trata de un trabajo de investigación que se inicia con mi estancia en el Tamarind Instituye de la Universidad de Nuevo Mexico y en el que se reflexiona sobre la obra grafica contemporanea, y concretamente sobre la litografia en EE.UU. En el periodo comprendido entre los años setenta y los noventa, dada la importancia y la influencia que ha ejercido ese periodo en el grabado actual. Se utilizan los antecedentes y formación de las lineas expresivas en la obra gráfica de los años sesenta, el entorno historico-artistico, los artistas, master-printers, talleres e instituciones educativas más representativos de las últimas décadas. En el tercer capítulo de la tesis, se analizan las técnicas litográficas en función de las líneas expresivas de la vanguardia norteamericana, y en el cuarto, algunas tecnicas litograficas innovadoras como el toner xerográfico en polvo y su utilización en litografia, la siligrafia o litografia sin agua o la litografia sobre plantas polimétalicas. Se describen los materiales y los diferentes procesos de trabajo, principalmente las experiencias de Nik Semenoff y otros investigadores norteamericanos como Veda Ozelle y Dale Bradley.,Y la idoneidad de estas tecnicas litográficas. Se adjunta al final de la tesis un glosario de términos y una bibliografia especifica.