Capture process by shallow donors in silicon at low temperatures

  1. Palma, A.
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  3. Godoy, A.
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Actas:
Journal De Physique. IV : JP

ISSN: 1155-4339

Año de publicación: 1996

Volumen: 6

Número: 3

Páginas: 105-110

Tipo: Artículo

DOI: 10.1051/JP4:1996316 GOOGLE SCHOLAR