Advanced temperature dependent statistical analysis of forming voltage distributions for three different HfO2-based RRAM technologies

  1. Pérez, E.
  2. Maldonado, D.
  3. Acal, C.
  4. Ruiz-Castro, J.E.
  5. Aguilera, A.M.
  6. Jiménez-Molinos, F.
  7. Roldán, J.B.
  8. Wenger, C.
Revista:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Año de publicación: 2021

Volumen: 176

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.SSE.2021.107961 GOOGLE SCHOLAR
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