Control of the preferred orientation of AlN thin films by collimated sputtering

  1. Rodríguez-Navarro, A.
  2. Otaño-Rivera, W.
  3. Pilione, L.J.
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  5. García-Ruiz, J.M.
Revista:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 0734-2101

Año de publicación: 1998

Volumen: 16

Número: 3

Páginas: 1244-1246

Tipo: Artículo

DOI: 10.1116/1.581267 GOOGLE SCHOLAR
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