Optimizacion de la resistencia especifica de dispositivos vdmos convencionales con puerta de polisilicio

Resumen

En este trabajo se ha realizado una formulacion analitica de la resistencia especifica de dispositivos vdmos de potencia, valida para cualquier diseño interdigitado o celular, asi como para uno propio consistente en un electrodo de puerta ondulada. Ademas, se ha desarrollado el software necesario para la generacion del conjunto de mascaras para la fabricacion de estos dispositivos. La tecnologia de fabricacion ha sido objeto de estudio, tratandose de un proceso tecnologico consistente en siete etapas fotolitograficas basado en un proceso de doble difusion autoalineado para la obtencion del canal activo. Los dispositivos fabricados han sido caracterizados electrica y tecnologicamente, corroborandose experimentalmente la validez de la modelizacion analitica llevada a cabo mediante el estudio de la resistencia de los 67 dispositivos diferentes integrados en el chip.