Effects of the voltage ramp rate on the conduction characteristics of HfO2-based resistive switching devices

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Revista:
Journal of Physics D: Applied Physics

ISSN: 1361-6463 0022-3727

Año de publicación: 2023

Volumen: 56

Número: 36

Tipo: Artículo

DOI: 10.1088/1361-6463/ACDAE0 GOOGLE SCHOLAR