Variability in HfO2-based memristors described with a new bidimensional statistical technique

  1. Acal, C.
  2. Maldonado, D.
  3. Cantudo, A.
  4. González, M.B.
  5. Jiménez-Molinos, F.
  6. Campabadal, F.
  7. Roldán, J.B.
Zeitschrift:
Nanoscale

ISSN: 2040-3372 2040-3364

Datum der Publikation: 2024

Ausgabe: 16

Nummer: 22

Seiten: 10812-10818

Art: Artikel

DOI: 10.1039/D4NR01237B GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor