Effects of gate oxide and junction nonuniformity on the DC and low-frequency noise performance of four-gate transistors

  1. Jiménez Tejada, J.A.
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  5. López Villanueva, J.A.
  6. Marinov, O.
  7. Deen, M.J.
Zeitschrift:
IEEE Transactions on Electron Devices

ISSN: 0018-9383

Datum der Publikation: 2012

Ausgabe: 59

Nummer: 2

Seiten: 459-467

Art: Artikel

DOI: 10.1109/TED.2011.2176494 GOOGLE SCHOLAR

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