Development of preferred orientation in polycrystalline AlN thin films deposited by rf sputtering system at low temperature

  1. Rodríguez-Navarro, A.
  2. Otaño-Rivera, W.
  3. García-Ruiz, J.M.
  4. Messier, R.
  5. Pilione, L.J.
Revista:
Journal of Materials Research

ISSN: 0884-2914

Año de publicación: 1997

Volumen: 12

Número: 7

Páginas: 1850-1855

Tipo: Artículo

DOI: 10.1557/JMR.1997.0254 GOOGLE SCHOLAR
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