Electron mobility in double gate silicon on insulator transistors: Symmetric-gate versus asymmetric-gate configuration

  1. Gámiz, F.
  2. Roldán, J.B.
  3. Godoy, A.
  4. Cartujo-Cassinello, P.
  5. Carceller, J.E.
Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 94

Nummer: 9

Seiten: 5732-5741

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.1615706 GOOGLE SCHOLAR