Thickness Characterization by Capacitance Derivative in FDSOI p-i-n Gated Diodes

  1. Navarro, C.
  2. Bawedin, M.
  3. Andrieu, F.
  4. Cluzel, J.
  5. Solaro, Y.
  6. Fonteneau, P.
  7. Martinez, F.
  8. Sagnes, B.
  9. Cristoloveanu, S.
Col·lecció de llibres:
2015 JOINT INTERNATIONAL EUROSOI WORKSHOP AND INTERNATIONAL CONFERENCE ON ULTIMATE INTEGRATION ON SILICON (EUROSOI-ULIS)

ISSN: 2330-5738,  2472-9132

ISBN: 978-1-4799-6911-1

Any de publicació: 2015

Pàgines: 189-192

Congrés: 2015 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon

Tipus: Aportació congrés

GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: WoS