On the enhanced electron mobility in strained-silicon inversion layers

  1. Fischetti, M.V.
  2. Gámiz, F.
  3. Hänsch, W.
Aldizkaria:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Argitalpen urtea: 2002

Alea: 92

Zenbakia: 12

Orrialdeak: 7320-7324

Mota: Artikulua

DOI: 10.1063/1.1521796 GOOGLE SCHOLAR