Thickness Characterization by Capacitance Derivative in FDSOI p-i-n Gated Diodes

  1. Navarro, C.
  2. Bawedin, M.
  3. Andrieu, F.
  4. Cluzel, J.
  5. Solaro, Y.
  6. Fonteneau, P.
  7. Martinez, F.
  8. Sagnes, B.
  9. Cristoloveanu, S.
Colección de libros:
2015 JOINT INTERNATIONAL EUROSOI WORKSHOP AND INTERNATIONAL CONFERENCE ON ULTIMATE INTEGRATION ON SILICON (EUROSOI-ULIS)

ISSN: 2330-5738,  2472-9132

ISBN: 978-1-4799-6911-1

Año de publicación: 2015

Páginas: 189-192

Congreso: 2015 Joint International EUROSOI Workshop and International Conference on Ultimate Integration on Silicon

Tipo: Aportación congreso

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Fuente de los datos: WoS