On the enhanced electron mobility in strained-silicon inversion layers

  1. Fischetti, M.V.
  2. Gámiz, F.
  3. Hänsch, W.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 2002

Volumen: 92

Número: 12

Páginas: 7320-7324

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.1521796 GOOGLE SCHOLAR